Institut für Halbleitertechnik

Technik und Technologie

Welche technische und technologische Ausstattung steht der Forschung am IHT zur Verfügung?

Blick auf den Neubau der Elektrotechnikschen Institut auf dem Campus Vaihingen (c)
Blick auf den Neubau der Elektrotechnikschen Institut auf dem Campus Vaihingen

Hervorragende Forschungsmöglichkeiten...

bietet die Ausstattung an dem Universtiätscampus Vaihingen. Für die Bauelementefertigung betreibt das IHT einen Reinraum  direkt im Neubau der Elektrotechnischen Institute am Universitätscampus Vaihingen. In diesem Reinraum und den Grauräumen des IHTs wurden zwei CMOS-kompatiblen Prozesslinien aufgebaut. Zusammen mit der etablierten Analytik bietet das IHT seinen Studenten und Mitarbeitern die besten Vorraussetzungen für eine erfolgreiche Lehre und Forschung.

 

Ein paar Daten und Zahlen

  • Reinraumfläche: 350 m²
  • Reinraum-Klasse: 10000 bis 100
  • Automatische Prozessanlagen
  • Substratgröße bis 200 mm Durchmesser
  • Aufdampf- und Sputter-Prozesstechnik: AlSi (1%), Al, Ag, Ni, TiW
  • PECVD-Abscheidung: SiO2, Si3N4
  • MBE-Wachstum: Si, SiGe, Sn, GeSn
  • ALD-Abscheidung: Al2O3
  • Trockenätzverfahren: ICP, RIE
  • Nasschemisches Ätzen: Si, SiGe, SiO2, Si3N4, Metalle
  • Reinigungsverfahren
  • Kontaktlithographie bis Substratgröße 150 mm
  • e-beam Lithographie
  • REM
  • µRaman Spektroskopie
  • Ellipsoemtrie, Reflektometrie
  • Profilometrie
  • nasschemisches Defektätzen von dünnen Schichten
  • Tieftemperatur Hall- Messtechnik
  • Gleichspannung: UI, CV
  • Hochfrequenz bis 110 GHz
  • Optische Spektralanalyse (LED)
  • Optische Empfindlichkeit (Detektor)
  • Sägearbeiten an Silizium Wafern
  • Bondtechniken
  • Gehäuse Aufbautechnik
  • Musterbau
  • Werkzeuge für Waferhandling
  • Einzel- und Kleinserienfertigung
  • Sonstige mechanische Arbeiten auf Anfrage

Ihre Ansprechpartner

Jörg Schulze
Prof. Dr. habil.

Jörg Schulze

Direktor

Cinja Schwiedel
 

Cinja Schwiedel

Assistentin der Institutsleitung

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